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氧化硅片
产品编号:JAH-SiO2 Wafer
产品产地:
产品描述:氧化硅片,二氧化硅片,氧化硅片厂家
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产品介绍
产品简介:
二氧化硅片是指在硅片表面热生长一层均匀的介质薄膜,用作绝缘、或者掩模材料。氧化工艺包括高温干氧氧化、高温湿氧氧化。公司采用进口先进氧化设备、工艺实现氧化层均匀、准确的生成。
产品特点:
● 氧化层厚度均匀 ● 平整度好 ● 翘曲度小
● 尺寸公差小 ● 表面无光滑无瑕疵
产品规格说明
外形尺寸:
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1",2",3",4",5",6",7 ~ 12"
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可定制
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型号
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N型/ P型、本征(不掺杂)
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客户要求
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直径:
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50 ~ 300mm
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总厚度:
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250 ~ 600 μm
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可定制
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厚度误差
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±10μm
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氧化层厚度
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50nm ~ 2000nm(常规100nm,200nm,300nm,500nm,1000nm)
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客户要求
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平整度(TIR)
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< 3 μm
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翘曲度(BOW)
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≤15μm
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TTV:
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≤15μm,30μm
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粗糙度
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< 0.5nm
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电阻率:
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0.001~ 20000 (Ω·cm)
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客户要求
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晶向
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〈100〉;〈110〉;〈111〉
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级别
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IC级
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表面处理
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单抛,双抛,研磨
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客户要求
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